光纤主要材料

   以SiO2材料为主的光纤，工作在0.8μm-1.6μm的近红外波段，目前所能达到的低理论损耗在1550nm波长处为0.16dB/km，已接近石英光纤理论上的低损耗极限。如果再将工作波长加大，由于受到红外线吸收的影响，衰减常数反而增大。因此，许多科学工作者一直在寻找超长波长(2μm以上)窗口的光纤材料。这种材料主要有两种，即非石英的玻璃材料和结晶材料，晶体光纤材料主要有AgC1、AgBr、KBr、CsBr以及KRS-5等，目前AgC1单晶光纤的低损耗在10.6μm波长处为0.1dB/km。因此，需要寻求新型基体材料的光纤，以满足超宽带宽、超低损耗、高码速通信的需要。

　　氟化物玻璃光纤是当前研究多的超低损耗远红外光纤，它是以ZrF4-BaF2、HfF4-BaF2两系统为基体材料的多组分玻璃光纤，其低损耗在2.5μm附近为1×10(的负三次方)dB/km，无中继距离可达到1×10(的5次方)km以上。1989年，日本NTT公司研制成功的2.5μm氟化物玻璃光纤损耗只有0.01dB/km，目前ZrF4玻璃光纤在2.3μm处的损耗达到外0.7dB/km，这离氟化物玻璃光纤的理论低损耗1×10(的负三次方)dB/km相距很远，仍然有相当大的潜力可挖。能否在该领域研制出更好的光纤，对于开辟超长波长的通信窗口具有深远的意义。

　　硫化物玻璃光纤具有较宽的红外透明区域(1.2-12μm)，有利于多信道的复用，而且硫化物玻璃光纤具有较宽的光学间隙，自由电子跃迁造成的能量吸收较少，而且温度对损耗的影响较小，其损耗水平在6μm波长处为0.2dB/km，是非常有前途的光纤。而且，硫化物玻璃光纤具有很大的非线性系数，用它制作的非线性器件，可以有效地提高光开关的速率，开关速率可以达到数百Gb/s以上。

　　重金属氧化物玻璃光纤具有优良的化学稳定性和机械物理性能，但红外性质不如卤化物玻璃好，区域可透性差，散射也大，但若把卤化物玻璃与重金属氧化物玻璃的优点结合起来，制造成性能优良的卤-重金属氧化物玻璃光纤具有重要的意义。日本Furukawa电子公司，用VAD工艺制得的GeO2-Sb2O3系统光纤，损耗在2.05μm波长处达到了13dB/km，如果经过进一步脱OH-的工艺处理，可以达到0.1dB/km。

　　聚合物光纤自19世纪60年代美国杜邦公司首次发明以来，取得了很大的发展。1968年杜邦公司研制的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)阶跃型塑料光纤 (SI POF)，其损耗为1000dB/km。 1983年，NTT公司的全氘化PMMA塑料光纤在650nm波长处的损耗降低到20dB/km。由于C-F键谐波吸收在可见光区域基本不存在，即使延伸到1500nm波长的范围内其强度也小于1dB/km。全氟化渐变型PMMA光纤损耗的理论极限在1300nm处为0.25dB/km，在1500nm处为0.1dB/km，有很大的潜力可挖。近年来，Y.KOIKE等以MMA单体与TFPMA(四氟丙基丙烯酸甲酯)为主要原材料，采用离心技术制成了渐变折射率聚合物预制棒，然后拉制成GI POF(渐变折射率聚合物光纤)，具有极宽的带宽(>1GHz.km)，衰减在688nm波长处为56dB/km，适合短距离通信。国内有人以MMA及BB(溴苯)、BP(联苯)为主要原材料，采用IGP技术成功地制备了渐变型塑料光纤。日本NTT公司近开发出氟化聚酰亚胺材料(FULPI)在近红外光内有较高的透射性，同时还具有折射率可调、耐热及耐湿的优点，解决了聚酰亚胺透光性差的问题，现已经用于光的传输。聚碳酸酯、聚苯乙烯的研究也在不断的进行中，相信在不久的未来更好性能的聚合物光纤材料得到开发和利用。

　　特殊的环境对光纤有特殊的要求，石英光纤的纤芯和包层材料具有很好的耐热性，耐热温度达到400-500℃，所以光纤的使用温度取决于光纤的涂覆材料。目前，梯型硅氧烷聚合物(LSP)涂层的热固化温度达400℃以上，在600℃的光传输性能和机械性能仍然很好。采用冷的有机体在热的光纤表面进行非均匀成核热化学反应(HNTD)，然后在光纤表面进行裂解生成碳黑，即碳涂覆光纤。碳涂覆光纤的表面致密性好，具有极低的扩散系数，而且可以消除光纤表面的微裂纹，解决了光纤的“疲劳”问题。